マイクロ波C2リッチプラズマを用いたナノカーボン膜の合成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-199

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Synthesis of Nanostructured Carbon Films by Using Microwave C2-Rich Plasmas

著者名: 嶋田 翔三郎(九州大学),中島誠宏 (九州大学),堤井君元 (九州大学)

著者名(英語): Shozaburo Shimada(Kyushu University),Masahiro Nakashima(Kyushu University),Kungen Teii(Kyushu University)

キーワード: プラズマCVD|アモルファスカーボン|グラフェン|ナノ構造|ラジカル

要約(日本語): マイクロ波プラズマCVD法によるカーボンナノウォール（CNW）の形成には、高濃度Ar希釈と高基板温度を要する。前者はC2ラジカルが重要なプリカーサーとして働くことを示唆する。後者はグラファイト化が望ましいことを示唆する。Ar濃度と基板温度を変化させた場合、CNWの表面形態の変化はあまり見られないが、ラマン分光測定の結果から、CNW中のグラファイト結晶子の平均サイズが変化することが分かった。また、CNWの生成は、ほぼ同一のプラズマ環境下で生成するナノダイヤモンドとは異なり、基板の表面状態よりも、プラズマのラジカル組成等に強く依存すると考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 677 Kバイト