パルスレーザー堆積法による紫外発光材料Ce3+:LiCaAlF6の薄膜化と光学特性評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-088

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Growth and evaluation of Ce3+ doped Lithium Calcium Aluminum fluoride thin films by pulsed laser deposition

著者名: 桑名 祐希(名古屋工業大学),市川 洋(名古屋工業大学),小野 晋吾(名古屋工業大学),猿倉 信彦(大阪大学),福田 健太郎(トクヤマ),石津 澄人(トクヤマ),須山 敏尚(トクヤマ),柳田 健之(東北大学),吉川 彰(東北大学),齋藤文良 (東北大学)

著者名(英語): Yuki Kuwana(Nagoya Institute of Technology),Yo Ichikawa(Nagoya Institute of Technology),Shingo Ono(Nagoya Institute of Technology),Nobuhiko Sarukura(Osaka University),Kentaro Fukuda(Tokuyama Corporation),Sumito Ishizu(Tokuyama Corporation),Toshihisa Suyama(Tokuyama Corporation),Takayuki Yanagida(Tohoku University),Akira Yoshikawa(Tohoku University),Fumio Saito(Tohoku University)

キーワード: 紫外発光材料|薄膜|パルスレーザー堆積法

要約(日本語): Ce3+:LiCaAlF6は紫外領域で幅広い利得帯域を持つレーザー材料であり、これまで紫外大出力固体レーザー開発に関する研究のみが行われてきた。本研究では、レーザー材料にもなり得るほど発光効率が高く劣化に関する報告もないこの材料を、紫外領域における新しい発光材料として活用するため、パルスレーザー堆積法を用いた薄膜化技術を確立した。成膜時の基板温度制御により、大幅に発光効率を改善することができたことは特筆すべき点である。さらに作製した薄膜からは、結晶に比べてより広い発光スペクトルを観測することができており、利用波長領域の拡大が期待できる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 722 Kバイト