配向性ZnOナノロッド群の作製と抵抗測定
配向性ZnOナノロッド群の作製と抵抗測定
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-091
グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集
発行日: 2009/03/15
タイトル(英語): Measurement of electronic properties of ZnO nanorods
著者名: 竹内 宏樹(名古屋工業大学),和田 章吾(名古屋工業大学),平瀬 裕司(名古屋工業大学),小野 晋吾(名古屋工業大学),市川 洋(名古屋工業大学)
著者名(英語): Hiroki Takeuchi(Nagoya Institute of Technology),Shogo Wada(Nagoya Institute of Technology),Yuji Hirase(Nagoya Institute of Technology),Shingo Ono(Nagoya Institute of Technology),You Ichikawa(Nagoya Institute of Technology)
キーワード: ナノロッド|酸化亜鉛|水熱合成|薄膜
要約(日本語): 本論文では,水熱合成法によるZnOナノロッド構造の合成,Alドーピングとその電気特性の評価について論じている.高周波マグネトロンスパッタ法によりSi基板上にAlドープZnO薄膜を形成する.次にこの薄膜基板を亜鉛酸イオンを含んだ水溶液中に入れ,液を低温加熱し基板上に垂直配向性ZnOナノロッド群を成長させ,SEMで観察した.次にナノロッドを塩化アルミニウム水溶液でリンス後,酸素雰囲気中でアニールし,ナノロッドのドーピングを行った.最後に,薄膜,ナノロッドにAl電極を付け,ZnOナノロッドの電気特性の測定を試みた.測定ではプローブ圧子の接触圧で電気抵抗の変化が確認された.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 717 Kバイト
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