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歪を導入した磁歪膜の磁区観察

歪を導入した磁歪膜の磁区観察

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-149

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Observation of Magnetic Domains of Magnetostrictive Thin Film under Stress

著者名: 那須野 弘(東北大学),諏訪 靖明(東北大学),我妻 成人(東北大学),枦修一郎 (東北大学),石山 和志(東北大学)

著者名(英語): Hiroshi Nasuno(RIEC Tohoku University),yasuaki Suwa(RIEC Tohoku University),Shigeto Agatsuma(RIEC Tohoku University),Shuichiro Hashi(RIEC Tohoku University),Kazushi Ishiyama(RIEC Tohoku University)

キーワード: 磁歪|磁区|異方性|磁化|応力|磁気弾性エネルギー

要約(日本語): 本研究は逆磁歪効果によって変化する磁化状態を確認することを目的とした。正磁歪材料であるFeCoSiB薄膜を用いた歪センサに応力を印加し、応力の大きさを変化させながら、磁化の向きを確認するため磁区観察を行った。長手方向に磁化されていた膜に、長手方向に対して圧縮応力を加えることで、磁化が幅方向に向きを変えることを確認した。応力印加状態における磁区を観察することで、逆磁歪効果による磁気弾性エネルギーと、磁性膜が持つ異方性エネルギーの関係によって磁化の向きが変化していることが確認できた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 863 Kバイト

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