プラズマCVD 法を用いたTEM によるin-situ触媒反応観察のための隔膜の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-019

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Development of Diaphragm for in-situ TEM Observation of Catalytic Reaction by Plasma CVD

著者名: 筒井 秀徳(近畿大学),松谷 貴臣(近畿大学),川崎 忠寛(名古屋大学)

著者名(英語): Hidenori Tsutsui(Kinki University),Takaomi Matsutani(Kinki University),Tadahiro Kawasaki(Nagoya University)

キーワード: 透過型電子顕微鏡|化学気相成長法|隔膜

要約(日本語): CO の酸化反応経過中の金ナノ触媒の反応機構を解明するため、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、その場観察する試みがなされている。試料室は電子線が透過でき、かつ試料室から電子顕微鏡内に反応ガスが漏れないように密閉する必要がある。その役割を担うのが隔膜であり、従来はカーボン膜が使用されていたが、長時間の観察には至ってはいない。本研究ではカーボン膜に代わる化学的に不活性で機械的強度の高いホウ素系隔膜をプラズマ化学気相成長法（P-CVD 法）により、作製することを目的とする。P-CVD 法を用いて直径70μm の孔を有する Cu メッシュ基板上にホウ素系隔膜の作製を試みた。今実験で、直径70μm の孔を覆う、ホウ素酸化物隔膜を作製することに成功した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 816 Kバイト