インクジェットのレジスト塗布への検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-028

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): A Basic Study of Resist Coating by Applying Electro-Statically Extracted Ink-Jet

著者名: 水上 尚彦(福岡工業大学),福本 誠(福岡工業大学),松尾 一壽(福岡工業大学)

著者名(英語): Takahiko Mizukami(Fukuoka Institute of Technology),Makoto Fukumoto(Fukuoka Institute of Technology),Kazuhisa Matsuo(Fukuoka Institute of Technology)

キーワード: インクジェット|レジスト|コーティング

要約(日本語): 一般に，半導体ウエハー等へのレジスト塗布装置としてスピンコータやスキャン塗布が用いられている。例えば，スピンコータは半導体ウエハーの中心部にレジストを滴下し円周部へ広げるため高速回転を必要とする。しかし高速回転によって，滴下されたレジストの約80～90％が飛散により無駄となるなど幾つかの課題がある。 一方，半導体ウエハーの径は，300mm～450mmへと広面積化への移行計画がなされている。半導体ウエハー径の広面積化は，高速回転を与える方法では難点を有しているものと考えられる。従って，半導体ウエハーの広面積化に伴い新たな塗布技術が求められている。この新たなレジスト塗布技術として，静電誘引形インクジェット方式に着目し，基礎的な検討を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 837 Kバイト