SiフォトニックMEMS gratingの作製方法についての検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-134

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Design and Fabrication of photonic MEMS grating

著者名: 石塚 彰(東京大学),肥後 昭男(東京大学),中野 義昭(東京大学)

著者名(英語): Akira Ishizuka(the University of Tokyo),Akio Higo(the University of Tokyo),Yoshiaki Nakano(the University of Tokyo)

キーワード: マイクロマシン|細線光導波路|静電アクチュエータ

要約(日本語): 近年、シリコン細線光導波路は光配線や光通信の分野で非常に注目されている。高屈折率差導波路のため、半径数ミクロンの急峻な曲げを可能にし、また、半導体プロセスと相性が良いためにPN接合などを組み合わせた光変調素子などが容易に作製できる。そこで、我々はこのシリコン細線光導波路とMEMS(micro electromechanical systems)技術を組み合わせて、機械的な駆動によって機能を持たせるフォトニックMEMS素子[1,2]を提案している。本発表では、シリコン細線光導波路にグレーティングを作製し、MEMSによる可変波長を実現するための手法を提案する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 622 Kバイト