商品情報にスキップ
1 1

1X2シリコンフォトニックMEMSスイッチの作製方法の検討

1X2シリコンフォトニックMEMSスイッチの作製方法の検討

通常価格 ¥440 JPY
通常価格 セール価格 ¥440 JPY
セール 売り切れ
税込

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-135

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Design and Fabrication of 1x2 Silicon Photonic MEMS switch

著者名: 肥後 昭男(東京大学),石塚 彰(東京大学),中野 義昭(東京大学)

著者名(英語): Akio Higo(RCAST,the University of Tokyo),Akira Ishizuka(RCAST,the University of Tokyo),Yoshiaki Nakano(RCAST,the University of Tokyo)

キーワード: マイクロマシン|静電駆動アクチュエータ|シリコン細線|光導波路|スイッチ

要約(日本語): シリコンフォトニクス集積回路にMEMS技術を用いて構造体を製作することで,超小型シリコン製光変調素子を作製することが可能になる.そこで本研究では,MEMS技術を利用してシリコン細線導波路と微小機械構造としてサブミクロンのギャップをもつ櫛歯アクチュエータを融合して1x2フォトニックスイッチの作製方法を検討した.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 783 Kバイト

販売タイプ
書籍サイズ
ページ数
詳細を表示する