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フロン系ガスを用いた炭化ケイ素の放電加工
フロン系ガスを用いた炭化ケイ素の放電加工
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カテゴリ: 全国大会
論文No: 4-200
グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集
発行日: 2009/03/15
タイトル(英語): Electric Discharge Processing of SiC in different gases, Air, CH4, and CF4
著者名: 野呂 聡哉(中部大学),杉本 達律(中部大学),山口 作太郎(中部大学),横井 英男(テック,エイチ,エム),馬嶋 英義(テック,エイチ,エム)
著者名(英語): Toshiya Noro(Chubu University),Tatsunori Sugimoto(Chubu University),Satarou Yamaguchi(Chubu University),Hideo Yokoi(Tech.H.M.),Hideyoshi Majima(Tech.H.M.)
キーワード: 放電加工|炭化ケイ素|フロン系ガス|エッチング|加工速度|表面粗度
要約(日本語): 炭化ケイ素(SiC)はワイドバンドギャップであるため次世代のパワーデバイスとして期待されている。しかし、硬度が高い材料のためダイヤモンドソーでのインゴットのスライシングに長い時間が必要である。我々は硬度に影響されない放電加工を適用し、SiCの切断に成功している。今回は加工雰囲気による放電加工への影響を調べるため、大気中、還元ガス(CH4)、フロン系ガス(CF4)中で放電加工を行った。CF4はSiCを化学的にエッチングするため、加工速度と表面粗度の向上の可能性を追求した。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 640 Kバイト
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