走査ホール素子顕微鏡を用いたバリア入りBi2223線材の残留磁界分布の評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-132

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Evaluation of remanent magnetic field on Bi2223 tapes with barriers by using Scanning Hall-probe Microscopy

著者名: 馬場 翔平(豊橋技術科学大学),光野 克紀(豊橋技術科学大学),稲田 亮史(豊橋技術科学大学),中村 雄一(豊橋技術科学大学),太田 昭男(豊橋技術科学大学),坂本 周作(木更津工業高等専門学校),李 成山(西北有色金属研究院),張平祥 (西北有色金属研究院)

著者名(英語): Shohei Baba(Toyohashi University of Technology),Yoshiki Mitsuno(Toyohashi University of Technology),Ryoji Inada(Toyohashi University of Technology),Yuichi Nakamura(Toyohashi University of Technology),Akio Oota(Toyohashi University of Technology),Shusaku Sakamoto(Kisarazu National College of Technology),Chengshan Li(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research),Pingxiang Zhang(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)

キーワード: 走査ホール素子顕微鏡|バリア線材|均質性評価|残留磁界

要約(日本語): Bi2223 高温超電導線材の低交流損失化には，フィラメント間への高抵抗バリア材の導入が必要となる．バリア入り線材は極めて複雑な構造を有するため，線材長手方向の通電特性および線材構造の均質性を非破壊かつ簡便な手法で評価することが，品質保証および更なる特性向上に向けて重要である。 本研究では，移動型磁石を用いて磁化したバリア入り線材幅広面上の残留磁界分布を走査ホール素子顕微鏡（ScanningHall-probe Microscopy，SHM）により測定し，通電特性の分布状況との比較によりバリア線材の均質性の評価を試みた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,198 Kバイト