二重シャッタードリフト装置における電子遮断特性の解析（２）?グリッド間隔の影響?

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-092

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): An analysis of electron cut-off characteristic of sampling shutter in double-shutter drift tube apparatus(2) - effect of grid spacing -

著者名: 大枝孝輔 (北見工業大学),吉田公策 (北見工業大学)

キーワード: 二重シャッタードリフトﾁｭｰﾌﾞ装置|電子輸送係数|ATS|モンテカルロ法

要約(日本語): 二重シャッタードリフト装置を用いた電子輸送係数測定における実験精度の向上を目的にシャッターの電子遮断特性をシミュレーションにより解析した。シャッターを構成するグリッド間隔を広げるにつれシャッター開口時、閉口時ともに電子透過率が低下するが、今回の条件下ではシャッター間が3mmのとき遮断性能が最適である事が分かった。また、グリッド間での非弾性衝突の影響としては、衝突がシャッター前面のグリッド近傍に限られるため，グリッド間隔を大きく選んでも遮断特性の改善にはつながらないことが明らかになった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 983 Kバイト