高強度パルスイオンビーム源としての真空アークプラズマガンの特性評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-180

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Characteristic evaluation of vacuum arc plasmagun as high intensity pulsed ion beam sorce

著者名: 落合 靖(富山大学),藤川 幸大(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Ochiai Yasushi(University of Toyama),Fujikawa Kodai(University of Toyama),Ito Hiroaki(University of Toyama),Masugata Katsumi(University of Toyama)

キーワード: 真空アーク放電|イオンビーム

要約(日本語): 高強度パルスイオンビーム(PHIB)は材料に照射することで、イオン注入と同時にアニール処理を行うことができる。また加熱する時間が極めて短いため、高融点半導体であるSiCに照射した場合でもSiO2で作成された表面構造を破壊することはない。そのため、新しいイオン注入法への応用が期待されている。本研究室ではイオン注入に必要な条件である電流密度50A/cm2以上、パルス幅100ns程度のPHIBを発生させることを目標に研究を行っている。そして現在、アルミニウムをイオン源としたPHIBを発生させることに成功した。しかし、イオン源である真空アークプラズマガンの特性が不安定であるため、ショットごとのイオンビーム出力の再現性が乏しい。その原因として、イオン源であるプラズマガンの特性が安定していないことが挙げられる。そのため、イオン源の改良を行うために真空アークプラズマガンの特性を評価し、イオン電流密度が不安定な原因を検討したので、その結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,372 Kバイト