回転磁場による生成プラズマを用いたEUV光の発生

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-190

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Production of Extream Ultra-Violet light using plasma by Rotating Magnetic Field

著者名: 中津 賢一(関西大学),吉永 史郎(関西大学),塚本 匡宣(関西大学),大澤 穂高(関西大学),大西正視 (関西大学),Hugrass Waheed(タスマニア大学)

著者名(英語): Kennichi Nakatsu(Kansai University),Shiro Yoshinaga(Kansai University),Masanobu Tsukamoto(Kansai University),Hodaka Osawa(Kansai University),Masami Ohnishi(Kansai University),Hugrass Waheed(University of Tasmania)

キーワード: FRC|EUV|リソグラフィ

要約(日本語): 現在ULSIの更なる集積化に向け技術開発が行なわれる中、リソグラフィ光源として13.5nmの極端紫外光（EUV)の開発が必要とされている。現在開発が進められているZ?ピンチ放電やSnイオンレーザを用いた方式ではデブリと呼ばれる不純物が発生し、シリコンウエハー及び反射鏡を汚染する。本研究では、核融合研究で開発されたRotamak装置を応用し、XeプラズマによってEUV光の発生を検証した。本装置では電極やアンテナを真空容器外に装置するためデブリの発生のないEUV光源の発生が可能である。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,231 Kバイト