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マイクロ波放電酸素プラズマの解離度に対する希ガス混入効果のアクチノメトリー測定

マイクロ波放電酸素プラズマの解離度に対する希ガス混入効果のアクチノメトリー測定

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-194

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Actinometry Measurement of Rare-Gas Mixture Effect on the Dissociation Degree of Microwave Discharge Oxygen Plasma

著者名: 高井 渉(東京工業大学),根津 篤(東京工業大学),松浦 治明(東京工業大学),赤塚 洋(東京工業大学)

著者名(英語): Wataru Takai(Tokyo Institute of Technology),Atsushi Nezu(Tokyo Institute of Technology),Haruaki Matsuura(Tokyo Institute of Technology),Hiroshi Akatsuka(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 酸素プラズマ|アクチノメトリー法|分光計測|酸素分子解離度|マイクロ波放電

要約(日本語): マイクロ波放電酸素プラズマ中の希ガス混入酸素の解離度を、アクチノメトリー法で測定した。希ガスとしてはHe, Ne, Arを用い、アクチノメーターとしてはHe, Ne混入時にはArを、 Ar混入時にはKrを、それぞれ用いた。分子解離度の絶対値の評価には電子温度/ガス温度等が必要で、それぞれダブルプローブ、OHラジカル回転温度により求めた。希ガス混入割合が30 %以下では、若干の解離度の増加がみられるものの、数%の上昇にとどまっている。50 %を超えて希ガスを混入すると、He混入の及ぼす効果が著しいことが判明した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 996 Kバイト

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