NLDプラズマの解析(IV)?電子エネルギー利得位置分布とエッチャント生成位置分布

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-197

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Analysis of NLD Plasma (IV) Spatial Distributions of Electron Energy Gain and Etchant Production

著者名: 大佐賀 毅(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学),櫻井 洋平(北海道大学),村山 明宏(北海道大学)

著者名(英語): Tsuyoshi Osaga(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University),Yohei Sakurai(Hokkaido University),Akihiro Murayama(Hokkaido University)

キーワード: NLDプラズマ|モンテカルロシミュレーション|エネルギー利得|境界条件

要約(日本語): NLD（Neutral Loop Discharge）プラズマは、3つの直流コイルが作る静磁界の重畳により生じる環状磁気的中性線に沿ってできる誘導結合型プラズマの一種であり、高異方性、大面積、均一プラズマプロセスの実現が期待される。筆者らはNLDプラズマのモンテカルロシミュレーションを行い、単位時間当たりの電子エネルギー利得分布と電子エネルギー密度、エッチャント生成分布の関係を解析した。その結果、エネルギー利得領域と高エネルギー電子存在領域が異なることが明らかになった。また、低気圧下では平均自由行程が伸び、電子は頻繁に壁面に衝突するため、境界条件を検討する必要があることを指摘した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 393 Kバイト