真空アーク蒸着法を用い作製したNd-Fe-B系磁石膜の磁気特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-139

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Magnetic Properties of Nd-Fe-B Film Magnets Prepared by Vacuum Arc Deposition Method

著者名: 佐原 政樹(長崎大学),山脇 一生(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Masaki Sahara(Nagasaki University),Kazuki Yamawaki(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: 磁石膜|アーク蒸着

要約(日本語): 厚さ数10 ?100 μm程度の高性能な小型磁石の開発が望まれる中、これまでスパッタリング法によるNd-Fe-B系異方性磁石膜の作製が盛んに報告されてきた。一方、Nd-Fe-B系等方性磁石膜に関しては、上述の異方性のものに比べ報告例は少ないものの、例えばTopferらはスクリーンプリント法により作製した残留磁化0.5 Tの等方性試料に多極着磁を施す実験結果を報告し、その「着磁方向の高い自由度」といった特徴を活かした小型デバイスへの応用を示唆した。すなわち、等方性磁石膜の磁気特性の更なる向上が、その応用の可能性を広げるものと考えられる。等方性試料の残留磁化の向上に着目すると、(1)酸化物などの非磁性成分の低減、(2)レマネンスエンハンスメント効果の利用、(3)高飽和磁化を有するソフト相とのナノコンポジット化等の手法が考えられる。本研究では、真空中において成膜可能、すなわちNdの酸化物の形成の抑制に有利な手法と考えられる真空アーク蒸着法を用いたNd-Fe-B系等方性磁石膜の作製を検討した。

原稿種別: 日本語

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