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MHC放電を用いたガスセンサ作製法の研究

MHC放電を用いたガスセンサ作製法の研究

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-147

グループ名: 【全国大会】平成22年電気学会全国大会論文集

発行日: 2010/03/05

タイトル(英語): Research of gas sensor making method using microhollow cathode discharge

著者名: 毛塚裕章(埼玉大学),内田秀和(埼玉大学),長谷川有貴(埼玉大学),谷治 環(埼玉大学)

著者名(英語): Hiroaki Kezuka|Hidekazu Uchida|Yuki Hasegawa|Tamaki Yaji

キーワード: 金属酸化物半導体ガスセンサ|マイクロホローカソード|プラズマ

要約(日本語): ガスセンサの感応膜材料としてSnO2などの金属酸化物半導体の研究が進んでおり、ガス検出感度が成膜方法に大きく依存していることがわかっている。従来は主にスパッタリング法が利用されて来たが、当研究室ではこれまでレーザアブレーション法や高周波プラズマ溶射法などを用いることで高感度化が可能なことを明らかにした。本研究は成膜プロセスの低コスト化を目的としてマイクロホローカソード(MHC)放電を利用したプラズマ溶射法によるSnO2の薄膜化の研究を行った。MHC放電は大気中でも放電させることが可能であり、センサ感応膜の作製に利用できればシステム全体の低コスト化を実現できる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 770 Kバイト

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