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弱電離気体プラズマの解析(XCVII)-O2をバックグラウンドガスとしたときの水上パルス放電によるフェノール分解過程

弱電離気体プラズマの解析(XCVII)-O2をバックグラウンドガスとしたときの水上パルス放電によるフェノール分解過程

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-045

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Studies on weakly ionized gas plasma (XCVII)-Decomposition process of phenol by a pulsed discharge above water surface when O2 is used as a background gas

著者名: 塩田晴基 (室蘭工業大学),佐藤孝紀 (室蘭工業大学),伊藤 秀範(室蘭工業大学)

著者名(英語): Haruki Shiota(Muroran Institute of Technology),Kohki Satoh(Muroran Institute of Technology),Hidenori Itoh(Muroran Institute of Technology)

キーワード: パルス放電|フェノール|分解生成物|ガスクロマトグラフ質量分析

要約(日本語): O2をバックグラウンドガスとし,フェノール水溶液上でパルス放電を発生させたところ,無水こはく酸,オルト-ジヒドロキシベンゼン,パラ-ジヒドロキシベンゼン,パラ-ベンゾキノンおよびギ酸が生成された。本稿の分解過程では,2個のO3がフェノールと反応し,グリオキシル酸およびマレイン酸あるいはシュウ酸および(Z)-3-ホルミルアクリル酸のペアを生成させることを分解の始点と考えている。無水こはく酸はマレイン酸あるいは(Z)-3-ホルミルアクリル酸から無水マレイン酸を経て生成されていると考えられる。また,ギ酸はシュウ酸の分解,および,グリオキシル酸からホルムアルデヒドを経る過程で生成されていると考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,589 Kバイト

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