赤外線2次元ロックインアンプによるマイクロストリップライン近傍の電界強度分布測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-177

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Measurement of Electric Field Intensity Distribution near Micro Strip Line using Infrared 2-D Lock-in Amplifier

著者名: 千代 憲隆(東京都市大学),荒井 瑞樹(東京都市大学),田中 康寛(東京都市大学),西方 敦博(東京工業大学),平野 拓一(東京工業大学),前野 恭(情報通信研究機構)

著者名(英語): Noritaka Chiyo(Tokyo City University),Mizuki Arai(Tokyo City University),Yasuhiro Tanaka(Tokyo City University),Atsuhiro Nishikata(Tokyo Institute of Technology),Takuichi Hirano(Tokyo Institute of Technology),Takashi Meano(National Institute of Information and Communications Technology)

キーワード: 電磁界強度分布測定|電磁ノイズの可視化|2次元ロックインアンプ|赤外線カメラ|電磁界イメージング|マイクロストリップライン

要約(日本語): アンテナを用いた電磁界分布測定は，点測定のために，測定に時間を要し，また，アンテナ自体が測定対象である電磁界強度分布を乱すこと，測定できる周波数が限定されることなどが問題であった。筆者らが開発した測定装置は電磁波を吸収し発熱する幕を用いることで2次元電磁界強度分布を求めることができ，検出装置自体が電磁界強度分布を乱すことも少なく，測定周波数依存性も低い。本装置によってマイクロストリップライン近傍の電界分布を観測したところ，信号線付近の強調された電界の観測に成功した。したがって，本装置による基板から放射される電磁ノイズの可視化なども期待でき，MEC対策などに有用であると考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 806 Kバイト