ポリイミド親水化処理における大気圧マイクロ波生成プラズマ中の酸素原子ラジカル密度

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-201

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Oxygen Radical Density in Microwave Excited Atmospheric Pressure Plasma for the Hydrophilization Treatment of Polyimide

著者名: 小野 茂(東京都市大学),千葉 隼人(東京都市大学),蛭川 能成(東京都市大学),井上 昂資(東京都市大学)

著者名(英語): Shigeru Ono(Tokyo City University),Hayato Chiba(Tokyo City University),Yoshinari Hirukawa(Tokyo City University),Takayoshi Inoue(Tokyo City University)

キーワード: 大気圧プラズマ|表面改質|ラジカル|親水化処理|マイクロ波

要約(日本語): 　従来のフレキシブルプリント基板は配線となる銅箔をある種のノリによってポリイミドと接着していた。この際、十分強固な接着を得るためにはアンカー効果を期待して、接着面の粗面化が行われてきた。しかしながら、最近では優れた高周波特性及びパターンの更なる微細化の要求から従来の方法は不適で、新たな方法が期待されている。このため、無電界メッキによる銅薄膜の生成する方法に期待が寄せられている。そのためには、本来撥水性のポリイミド表面の親水化処理が重要になってくる。　研究に用いるプラズマ源は大気圧で時間的に安定したプラズマを生成できるように開発されたマイクロ波励起プラズマ源である(1)。定常的なプラズマが生成できるのでプラズマパラメータの測定が容易で、プラズマ状態と表面改質の関係を把握しながら実験が可能である。今回は特に表面改質に重要な役割を果たすラジカル密度と親水化処理の関係を把握することに注目して研究を進めてきた。

原稿種別: 日本語

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