トーチ下流から反応性ガスを導入した変調熱プラズマにおけるガス組成径方向分布

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-223

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Radial Distribution of Gas Composition Pulse Modulated Induction Thermal Plasma with Injection of Reactive Gases into Downstream of the Torch.

著者名: 藤本 健太(金沢大学),春多洋佑 (金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 善彦(金沢大学)

著者名(英語): Kenta Fujimoto(Kanazawa University Graduate School of Natural Science & Technology),Yosuke Haruta(Kanazawa University Graduate School of Natural Science & Technology),Yasunori Tanaka(Kanazawa University Graduate School of Natural Science & Technology),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University Graduate School of Natural Science & Technology)

キーワード: 熱プラズマ|パルス変調熱プラズマ|非平衡状態|質量分析|ガス組成径方向分布|窒素原子

要約(日本語): 本研究室では『パルス変調誘導熱プラズマ（PMITP）』を開発しており, このPMITPはプラズマ下流に配置した試料に照射される熱流束を減少させ，同時に励起窒素原子数を増加できることを実験より見出している。また,トーチ下流部から反応性ガスを導入した条件における窒化処理ではコイル電流変調をおこなうほど窒化が促進する結果が得られている。そこで本報告では, トーチ下流部からN₂およびH₂ガスを導入した条件におけるプラズマの質量分析をおこない, ガス組成径方向分布を測定した。これにより, コイル電流変調とガス組成径方向分布の関係を調査した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,100 Kバイト