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低エネルギー高電離イオンによる表面ヒロック形成機構の解明

低エネルギー高電離イオンによる表面ヒロック形成機構の解明

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-109

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Formation mechanisms of nanohillocks by highly charged ion irradiation of surfaces

著者名: 中川 幸子(岡山理科大学),Harry Whitlow(University of Jyv?skyl?)

著者名(英語): Sachiko Nakagawa T (Okayama Univ. of Science),Harry Whitlow J (University of Jyv?skyl?)

キーワード: ビーム物理|シミュレーション

要約(日本語): イオンビームと物質の相互作用として、まだ解明が十分でない分野の一つは、高電離イオンやクラスターイオンといったエキソビームである。なかでも高電離イオンは、電子系の励起という非弾性散乱が、最終的には物質の塑性変形引き起こすが、その機構については現象論の域をでていない。困難さの原因は電子格子相互作用の取り扱いに在る。我々は、この緩和機構を分子動力学法の中に組み込む形で、機構解明を目指す。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 749 Kバイト

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