ポーラスシリコンの局所的形成と界面活性剤添加効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-113

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Local Fabrication Technique of Porous Silicon and Effect of Surfactants to Hydrofluoric Solutions

著者名: 矢作 徹(山形県工業技術センター),岩松 新之輔(山形県工業技術センター),渡部 善幸(山形県工業技術センター),小林 誠也(山形県工業技術センター)

著者名(英語): Toru Yahagi(Yamagata Research Institute of Technology),Shinnosuke Iwamatsu(Yamagata Research Institute of Technology),Yoshiyuki Watanabe(Yamagata Research Institute of Technology),Seiya Kobayashi(Yamagata Research Institute of Technology)

キーワード: ポーラスシリコン|陽極酸化|局所的形成|界面活性剤

要約(日本語): ポーラスシリコン(PSi)は、フッ酸溶液中での単結晶Siの陽極酸化で生じるピットにより形成される。PSiの形成条件にはウエハ比抵抗、電流密度、陽極酸化面の形状、溶液組成等多くの要因があるが、ピット間隔や深さは十分に制御できていない。本研究では、Siウエハ上に予め微細なパタンを形成し、フッ酸溶液に界面活性剤を添加することで、パタン位置への局所的なPSiの形成を試みた。その結果、無添加の場合に比べ界面活性剤を添加した場合は予め形成したパタンに沿ってピットが繋がるライン構造が観察された。これは界面活性剤の結晶方位によるエッチング抑止効果のためと考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 972 Kバイト