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ミアンダ形プローブを用いた磁性薄膜の透磁率分布計測

ミアンダ形プローブを用いた磁性薄膜の透磁率分布計測

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-142

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Permeability Measurement of Magnetic Thin Film by Meander Type Probe

著者名: 佐藤 彰(東北学院大学),高橋 純也(仙台高専),薮上 信(東北学院大学),小澤 哲也(仙台高専),宮澤 安範(東栄科学),柳 邦雄(東栄科学),島田 寛(東北大学)

著者名(英語): Sato Akira(tohoku-Gakuin University),Takahashi Junya(Sendai National College of Technology),Yabukami Shin(tohoku-Gakuin University),Ozaya Tetsuya(Sendai National College of Technology),Miyazawa Yasunori(Toei Scientific Industrial co.,Ltd.),Yanagi Kunio(Toei Scientific Industrial co.,Ltd.),Shimada Yutuka(Tohoku University)

キーワード: ミアンダ形プローブ|透磁率計測|磁性薄膜

要約(日本語): 従来磁性薄膜の透磁率計測は評価用基板を特定のサイズに切り出す必要があった。本報告ではミアンダ形プローブを磁性薄膜へ近接配置し、高周波インピーダンスを用いてNewton-Raphson法により、複素透磁率を最適化した。このプローブを用いて、 50 mm ×50 mmの比較的大サイズのCoNbZr薄膜の局所的な透磁率を計測し、8 GHzまでの高周波帯において評価した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 927 Kバイト

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