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半導体薄膜を用いたエチレンセンサのNi触媒による低ガス濃度域における感度改善

半導体薄膜を用いたエチレンセンサのNi触媒による低ガス濃度域における感度改善

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-141

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Highly sensitive ethylene sensors using semiconducting thin film and Ni catalyst

著者名: 秋山 友(東京電機大学),原 和裕(東京電機大学)

著者名(英語): Tomo Akiyama(Tokyo Denki University),Kazuhiro Hara(Tokyo Denki University)

キーワード: エチレンセンサ|Ni触媒|半導体薄膜|多孔質アルミナ|低ガス濃度域

要約(日本語): これまでエチレンセンサは厚膜形を中心として研究されてきた。しかし、厚膜形は粒子サイズやその分布、膜厚等にばらつきが生じやすく、小型化や集積化も困難であると言える。これまでの研究において、スパッタリング法を用いて半導体薄膜を堆積させ、多孔質アルミナにNi触媒を堆積させた触媒フィルタを用いて、エチレンに対する感度と選択性を向上させたエチレンセンサの開発に成功した。本論文では、低ガス濃度域でのエチレンに対する感度の向上および選択性の改善として、Ni触媒、Pd触媒およびCo触媒を用いて検討を行い、これらの感度や選択性について測定した結果を示す。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,347 Kバイト

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