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高感度傾斜角センサ作製プロセスの改善とその評価

高感度傾斜角センサ作製プロセスの改善とその評価

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-169

グループ名: 【全国大会】平成23年電気学会全国大会論文集

発行日: 2011/03/05

タイトル(英語): Fabrication Process Improvement for High Sensitivity Tilt Sensors and Its Evaluation

著者名: 劉 健男(早稲田大学),李 南浩(早稲田大学),播磨 幸一(早稲田大学),高森 政聡(坂本電機),梁 金星(早稲田大学),植田 敏嗣(早稲田大学)

著者名(英語): Liu Jiannan(Graduate School of IPS,Waseda University),Lee Namuho(Graduate School of IPS,Waseda University),Harima Koichi(Graduate School of IPS,Waseda University),Takamori Masaaki(Sakamoto Electric Mfg. CO.,LTD),Liang Jinxing(Graduate School of IPS,Waseda University),Ueda Toshitsugu(Graduate School of IPS,Waseda University)

キーワード: 傾斜角センサ|櫛形電極|アニーリング|残留応力

要約(日本語):  本研究の目的は、この高感度傾斜角センサの量産化に向けた作製プロセスの確立である。傾斜角センサの櫛形電極は、水晶のウェットエッチングで高アスペクト比に加工されているため、櫛形電極全面に金属膜を成膜することが困難である。その他に、金属膜の残留応力による櫛形電極とバネの反りの問題もあり、これらはセンサ作製における歩留まり低下の主な要因となっていた。我々はこれらの問題を解決するために、アニーリングによってプロセスを改善することができたので、作製したセンサの評価を交えて報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,466 Kバイト

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