ICP支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法による柔軟性素材上へのNi薄膜の作製と評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-215

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Fabrication and Evaluation of Nickel Thin Films on the Flexible Material Using Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement Assisted by Inductively Coupled Plasma

著者名: 幸田龍典 (広島工業大学),大谷和輝 (広島工業大学),沖 英明(広島工業大学),豊田 宏(広島工業大学)

著者名(英語): Tatsunori Koda(Hiroshima Institute of Technology),Kazuki Otani(Hiroshima Institute of Technology),Hideaki Oki(Hiroshima Institute of Technology),Hiroshi Toyota(Hiroshima Institute of Technology)

キーワード: 多重磁極マグネトロンスパッタ|イオンアシスト効果|柔軟性素材|AFM|Ni薄膜

要約(日本語): イオン照射効果を高めるために開発された誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法(MMPC-ICP)を用いて、室温付近で柔軟性素材基板上にNi薄膜を作製し、膜構造に及ぼすイオンアシスト効果について検討した。作製したNi薄膜の表面形状および結晶構造の評価には、それぞれ原子間力顕微鏡(AFM)およびX線回折法(XRD)を用いた。AFM観察結果から、MMPC-ICPにより作製されたNi薄膜は、高エネルギー粒子の基板照射が高められ、表面拡散を促進し、Ni薄膜の表面粒径の成長と平坦化を促したと考えられる結果が得られた。さらにXRD測定結果から、Ni(200)に強く配向していることも確認された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 773 Kバイト