H-C-N反応性分子を有する低温プラズマ中における炭素堆積膜の除去特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-216

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Removal of Carbon Deposited Film in low temperature plasmas with H-C-N reactive molecular system

著者名: 佐々木 彩(金沢大学),高井 裕一郎(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),田中 康規(金沢大学),石島 達夫(金沢大学)

著者名(英語): Aya Sasaki(Kanazawa University),Yuichiro Takai(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University)

要約(日本語): 核融合炉で使用される炭素材は、水素プラズマとの相互作用により損耗されるだけでなく、炭素ダストおよび堆積膜を生成する。燃料であるトリチウムを吸蔵した炭素ダストの飛散や再堆積は安全面で大きな問題となっている。これまで高周波誘導プラズマを用いた実験で、アルゴン/水素プラズマへ窒素を添加してグラファイトに照射するとダスト形成とダスト数密度が非常に抑制されるという結果が得られている。本研究では非平衡の定常水素プラズマを生成し、核融合プラズマにおけるSOLやリモート領域のプラズマに近い条件で実験を行った。この条件下においても窒素添加によるダスト形成抑制効果、また膜堆積の抑制効果が見られるかを検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,039 Kバイト