薄膜フィルムの自己回復性破壊機構解明のためのシステム構築Ⅱ

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-016

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Development of Experimental System for Clarifying Self-Healing Mechanism of Dielectric Thin Film Ⅱ

著者名: 石井 佑一(豊橋技術科学大学),村上 義信(豊橋技術科学大学),栗本 宗明(豊橋技術科学大学),長尾 雅行(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Yuichi Ishii(Toyohashi University of Technology),Yoshinobu Murakami(Toyohashi University of Technology),Muneaki Kurimoto(Toyohashi University of Technology),Masayuki Nagao(Toyohashi University of Technology)

キーワード: セルフヒーリング|絶縁破壊|薄膜フィルム

要約(日本語): 薄膜フィルムの絶縁破壊では、自己回復作用のために非短絡性破壊が起こる場合がある。自己回復性破壊を応用すると、試料の弱点を除去することや、同一試料について異なった試験条件下の試験ができるなどの利点があるため、自己回復性破壊は工学的に重要な現象である。自己回復性破壊を効果的に利用するためには、薄膜フィルムにおける絶縁破壊から蒸着膜蒸散に至る一連の自己回復機構を調査する必要がある。本論文では、高分子フィルムの自己回復性破壊機構を調査するための実験回路の検討を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 397 Kバイト