イオンビーム照射後の結晶にみられる局所フォノン励起

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-084

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): The local phonon excitation caused by the ion beam impact

著者名: 中川 幸子(岡山理科大学)

著者名(英語): Sachiko Nakagawa(Okayama Univ. of Science)

キーワード: アニーリング|イオン注入|クラスター　ビーム|フォノン

要約(日本語): 結晶にイオンビームを照射すると、遅くとも数百フェムト秒のうちに、入射エネルギーが物質に移行する。このときにできる欠陥をアニーリングで回復させるには、少なくとも更に数ナノ秒以上は要するが、この移行期間（ピコ秒の世界）を分子動力学で観察すると、結晶性の回復は連続的では無いことがわかる。回復の進行における、基盤温度と入射エネルギーの依存性を紹介する。（173文字）

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 470 Kバイト