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導電性高分子によるナノパターンの作製及びSi基板上への転写

導電性高分子によるナノパターンの作製及びSi基板上への転写

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-104

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Fabrication of nano-patterns of conducting polymer and the structural transcription on Si surface

著者名: 森 俊樹(関東学院大学),石井 圭太(関東学院大学),渡邉 洋平(関東学院大学),加藤 ひとし(関東学院大学),竹村 進(関東学院大学),平松 友康(関東学院大学)

著者名(英語): Toshiki Mori(Kantogakuin University),Keita Ishii(Kantogakuin University),Yohei Watanabe(Kantogakuin University),Hitoshi Kato(Kantogakuin University),Susumu Takemura(Kantogakuin University),Tomoyasu Hiramatsu(Kantogakuin University)

キーワード: ポリアニリン|陽極酸化|DFM|Nano Transfer

要約(日本語): 我々は、陽極酸化を用いてAl基板上にポーラスアルミナとは異なる高度に配向したライン状構造、ドット状構造など様々なナノ構造を作製することに成功した。このナノ構造を用いて高分子(CuPc、C60)のパターニングを試みた結果、ナノ構造に沿う形でパターニングされていることが確認できた。本研究ではこのAl上に作製したナノ構造を用いて導電性高分子ポリアニリン(PA)のナノパターンの作製を行った。また新たな応用段階としてPAナノパターンのSi基板上への転写技術の開発および測定、解析を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,117 Kバイト

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