P3HT/PCBMバルクヘテロ接合太陽電池の活性層へのNileRed分子添加効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-112

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Improving the films properties in P3HT/PCBM bulk heterojunction solar cell by NileRed molecular additive

著者名: 菱沼 孝亮(鳥取大学),横野 洋希(鳥取大学),木村 康孝(鳥取大学),萩原 純一(鳥取大学),西川 昌宏(鳥取大学),有岡 佑(鳥取大学),藤井 一秀(鳥取大学),草野 浩幸(鳥取県産業技術センター),小林 洋志(鳥取大学),北川 雅彦(鳥取大学)

著者名(英語): Takaaki Hishinuma(Tottori University),Hiroki Yokono(Tottori University),Yasutaka Kimura(Tottori University),Junichi Hagiwara(Tottori University),Masahiro Nishikawa(Tottori University),Yu Arioka(Tottori University),Kazuhide Fujii(Tottori University),Hiroyuki Kusano(Tottori Prefectural Industrial Technology Institute),Hiroshi Kobayashi(Tottori University),Masahiko Kitagawa(Tottori University)

キーワード: 有機薄膜太陽電池|バルクヘテロ接合|分子添加|NileRed|P3HT/PCBM

要約(日本語): P3HT:PCBMバルクヘテロ接合層に長波長光領域での光吸収用低分子NileRedを添加した素子の膜特性を検討した． P3HT:PCBM:NileRed組成比はモル比により1:1:x(x=0.5,1,2,3,4,5)とした．P3HT:PCBM 膜の光吸収スペクトルのピーク波長510nm に対し，P3HT:PCBM:NileRed膜のそれは長波長側にシフトしており530nm付近となった．NileRed添加膜ではP3HT:PCBM膜と比較しピーク波長での吸光度が増大し，かつNileRed の混合量に依存して増加した．P3HT:PCBM:NileRed膜の膜厚依存性も合わせて検討し，NileRedの最適添加濃度はx=1前後にあるものと推定した．NileRed添加により，未添加バルクヘテロ接合の光吸収を増大でき，分子添加による太陽電池の高効率化が期待できることを示した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,833 Kバイト