カーボンドローイングおよびエンボシィングによる金属・半導体表面へのナノ構造作製・ナノ構造転写

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-113

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Nanofabrication and nanotransfer on metal and semiconductor surfaces by carbon drawing and embossing methods

著者名: 寳井 義之(関東学院大学),石井 篤朗(関東学院大学),渡邉 洋平(関東学院大学),加藤 ひとし(関東学院大学),竹村 進(関東学院大学),平松 友康(関東学院大学)

著者名(英語): Takarai Yoshiyuki(Kanto Gakuin University),ishii Atsuro(Kanto Gakuin University),Watanabe Yohei(Kanto Gakuin University),Kato Hitoshi(Kanto Gakuin University),Takemura Susumu(Kanto Gakuin University),Hiramatsu Tomoyasu(Kanto Gakuin University)

キーワード: カーボンドローイング|グラファイト

要約(日本語): 現在SiO2基板上にカーボンドローイングによりグラファイト層が形成されるという報告がある。グラファイトとは、六角形格子が層状に重なっているもので、グラファイトとは六角形格子が一層のみの状態のことをいう。本研究では、このカーボンドローイングにより、SiO2表面にHOPG及び鱗片状黒鉛を用いてナノ構造を作製し、カーボンドローイングを行った各々の表面の観測、解析することを目的とする。また、カーボンドローイングとは異なるエンボシィング方法を用いてSiO2基板上にナノ構造を持ったAl基板のナノ構造の転写を試みた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 842 Kバイト