妨害物質除去機能を備えた高感度クーロメトリックデバイスの構築

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-157

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Development of Highly Sensitive Coulometric Device with a Function to Eliminate Interferents

著者名: 関 貴史(筑波大学),池本 和宏(筑波大学),横川 雅俊(筑波大学),鈴木 博章(筑波大学)

著者名(英語): Takafumi Seki(University of Tsukuba),Kazuhiro Ikemoto(University of Tsukuba),Masatoshi Yokokawa(University of Tsukuba),Hiroaki Suzuki(University of Tsukuba)

キーワード: 高感度|クーロメトリー|液滴プラグ|腐食

要約(日本語): 微小流路中に形成された液滴（プラグ）中の成分のクーロメトリーにおける、バックグラウンドの増大は高感度測定の障害となる。この問題に対し我々は、金属腐食の原理に着目し、単一電極系を用いて測定対象物を電極表面上の銀析出として、変換蓄積する方式を開発してきた。これにより、バックグラウンドの影響の軽減、検出限界の低濃度化が実現される。このデバイスを、夾雑物を含んだ実サンプルの分析に応用するには、電極反応に影響を及ぼす妨害物質の除去が課題となる。そこで本研究では、選択的かつ効率的な妨害物質除去機構を搭載した生体実サンプル測定用高感度クーロメトリック分析デバイスの構築を目的に研究を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,134 Kバイト