YBCO薄膜におけるS/N転移伸展過程と発生抵抗の関係

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-110

グループ名: 【全国大会】平成24年電気学会全国大会論文集

発行日: 2012/03/05

タイトル(英語): Relationship between expansion process of S/N transition and resistance generation on YBCO Thin Films

著者名: 服部 圭佑(東京大学),馬場 旬平(東京大学),西原 太一(明星大学),仁田 旦三(明星大学),渋谷 正豊(明星大学),熊谷 俊弥(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Keisuke Hattori(The University of Tokyo),Jumpei Baba(The University of Tokyo),Taichi Nishihara(Meisei University),Tanzo Nitta(Meisei University),Masatoyo Shibuya(Meisei University),Toshiya Kumagai(AIST)

キーワード: 超電導限流器|YBCO薄膜|S/N転移

要約(日本語): YBCO薄膜を用いた抵抗型限流器は、超電導線材を用いた限流器に比べ小型化できると考えられており、特に小型化の要望が強い配電系統への導入が期待されている。しかし、過電流通電時のYBCO薄膜における超電導状態から常電導状態への転移(S/N転移)による抵抗発生の過程は解明されていない点も多い。本研究ではS/N転移の伸展過程を詳細に観測または推定するため、1Hzの低周波過電流通電時におけるYBCO薄膜の特性を測定し、S/N転移伸展の範囲と抵抗発生の関係性を明らかにした。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,717 Kバイト