NLDプラズマの解析（XXV） ―ラジカル生成位置分布に及ぼす空間電荷電界の効果―

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-031

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Analysis of NLD plasma (XXV) － effect of space charge field on radical production distribution －

著者名: 浅見 勇介(北海道大学),吉田 拓平(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学),村山 明宏(北海道大学)

著者名(英語): Yusuke Asami(Graduate School of Information Science and Technology),Takuhei Yoshida(Graduate School of Information Science and Technology),Hirotake Sugawara(Graduate School of Information Science and Technology),Akihiro Murayama(Graduate School of Information Science and Technology)

キーワード: NLDプラズマ|磁界|エッチング|ラジカル生成|空間電荷電界

要約(日本語): 磁気的中性ループ放電（NLD）プラズマは3本の直流コイルの磁界を重畳して作る磁界ゼロの環に沿って生成されるエッチング用誘導結合型プラズマである．高速加工のためのエッチャントラジカル大量生成に適した高圧条件下でプラズマ諸特性を解析た．今回モデルに組み入れた空間電荷電界がCF3ラジカル生成に与える影響について報告する．ラジカル生成位置は，空間電荷電界考慮の有無によらずRFアンテナ付近の強電界領域に分布する傾向がみられた．空間電荷電界を考慮した場合，ラジカル生成位置分布が縦方向に広がった．ラジカルの下向入射面密度分布は，低い位置の中心部ではほぼ均一であった．この特徴は空間電荷電界考慮の有無によらず保たれていた．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 218 Kバイト