中性子変換ドーピングに向けた同軸二重円筒装置のパルス動作による大電流化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-182

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Large Current Pulse Operation of the Coaxial Double Cylindrical IEC Device for the Neutron Transmutation Doping

著者名: 南條 一樹(東京工業大学),今治宏紀 (東京工業大学),野辺 啓太(東京工業大学),Ngamdee Wantapon(東京工業大学),渡邊 正人(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学)

著者名(英語): Kazuki Nanjo(Tokyo Institute of Technology),Hiroki Imaji(Tokyo Institute of Technology),Keita Nobe(Tokyo Institute of Technology),Ngamdee Wantapon(Tokyo Institute of Technology),Masato Watanabe(Tokyo Institute of Technology),Eiki Hotta(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 慣性静電閉じ込め核融合|中性子変換ドーピング|パルスパワー

要約(日本語): 中性子変換ドーピング(NTD)はSiインゴットに中性子を照射し，一様なリン分布をもつ半導体を製造することができる．NTDを実現できる小型の装置として，同軸二重円筒型慣性静電閉じ込め核融合(CDC-IEC)装置を提案する．CDC-IECの中性子生成率(NPR)は装置に流れる電流の1乗に比例する．しかし直流動作による大電流化は，装置本体の温度が上昇しNPRの増加が鈍る恐れがある．よってCDC-IECをパルス駆動し，中性子生成率の向上を図った．ここではパルス波形入力による放電特性を報告する．ピーク電流を一定とし，重水素ガス圧力を変化させた時のパルス電圧・電流波形を測定した．ガス圧力が低くなるほどパルス電圧が高くなり，パルス電流の遅れ時間が長くなった．今後はNPRの測定を行う予定である．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 323 Kバイト