マイクロ波励起水中気泡プラズマによるレジスト膜除去プロセス

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-196

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Resist Removal Process using microwave excited bubble plasma under water

著者名: 野阪 幸平(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),堀邊 英夫(金沢工業大学),後藤 洋介(金沢工業大学)

著者名(英語): Kouhei Nosaka(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Hideo Horibe(Kanazawa Institute of Technology),Yousuke Goto(Kanazawa Institute of Technology)

キーワード: 液中プラズマ|レジスト処理

要約(日本語): 半導体製造工程におけるレジスト膜除去において、イオン注入されたレジストは変性し除去が困難となる。本報告では液中プラズマ技術を用いて除去が困難なイオン注入レジストの処理を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 246 Kバイト