自己回復性破壊における金属蒸着膜蒸散面積にフィルム容量が及ぼす影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-036

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Influence of Film Capacitance on Evaporation Area of Metal Electrode Layer in Self-healing Breakdown

著者名: 石井 佑一(豊橋技術科学大学),鈴木 秀憲(豊橋技術科学大学),村上 義信(豊橋技術科学大学),栗本 宗明(豊橋技術科学大学),長尾 雅行(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Yuichi Ishii(Toyohashi University of Technology),Hidenori Suzuki(Toyohashi University of Technology),Yoshinobu Murakami(Toyohashi University of Technology),muneaki Kurimoto(Toyohashi University of Technology),masayuki Nagao(Toyohashi University of Technology)

キーワード: 自己回復性破壊|電気絶縁|薄膜フィルム

要約(日本語): 薄膜フィルムの絶縁破壊では、自己回復作用のために非短絡性破壊が起こる場合がある。自己回復性破壊を応用すると、試料の弱点を除去することや、同一試料について異なった試験条件下の試験ができるなどの利点があるため、自己回復性破壊は工学的に重要な現象である。自己回復性破壊を効果的に利用するためには、薄膜フィルムにおける絶縁破壊から蒸着膜蒸散に至る一連の自己回復機構を調査する必要がある。本論文では、構築した回路を用いて蒸着金属膜蒸散のために消費される電気エネルギーと蒸着膜蒸散面積について調査した。その結果、測定したエネルギー範囲における蒸散面積とエネルギーの関係が0.63 mm2/mJであるという結果を得た。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 341 Kバイト