窒素イオン照射によるPTFEの接着力向上に寄与する凹凸の形態

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-040

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Contribution of Roughness on PTFE Adhesion by Nitrogen Ion Irradiation

著者名: 長坂 勇輔(東京都市大学),岩尾 徹(東京都市大学),湯本 雅恵(東京都市大学)

著者名(英語): Yusuke Nagasaka(Tokyo city University),Toru Iwao(Tokyo city University),Motoshige Yumoto(Tokyo city University)

キーワード: PTFE|接着力|イオン照射|極性基|凹凸

要約(日本語): プリント基板材料として，低誘電率など優れた特性を持つPTFE(PolyTetraFluoroEthylene)が注目されている。しかしPTFEは接着力が乏しく表面改質が必要となる。接着力は極性基の導入と凹凸の形成により向上する極性基の導入が多い30 eV照射での接着力に比べ，極性基の導入は少なく凹凸形成も小さい数100 eV照射の場合には接着力が大きくなった。本研究では接着力の向上要因が凹凸の形状にあることに着目し，凹凸形態と接着力の関係を明らかにすることを検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 272 Kバイト