イオンビーム照射後の結晶性の振動的回復に見られる局在フォノン励起

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-080

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): The oscillatory excitation of local phonons after ion beam irradiation

著者名: 中川 幸子(岡山理科大学)

著者名(英語): Sachiko Nakagawa T (Okayama Univ. of Science)

キーワード: クラスタービーム|アニーリング|シミュレーション

要約(日本語): 半導体デバイス作成に必須な工程としての「イオン注入＋アニーリング」のアニール過程は、ピコ秒以下の周期を持つ格子振動が、数ミリ秒という非常に永い時間をかけて繰り返された結果による結晶性回復の過程である。その回復過程が実際にはどのように進行していくのか、我々は、結晶の秩序係数を分子軌道法によって調べた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 276 Kバイト