Off-axisPLD法による金属酸化物成膜における電界印加の効果
Off-axisPLD法による金属酸化物成膜における電界印加の効果
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-089
グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集
発行日: 2013/03/05
タイトル(英語): The effect assisted electric field in a synthesis of metal oxide thin films by Off-axis Pulsed Laser Deposition.
著者名: 宮澤 宏明(日本大学),鎌田尚馬 (日本大学),胡桃 聡(日本大学),鈴木 薫(日本大学)
著者名(英語): Hiroaki Miyazawa(Nihon University),Shoma Kamada(Nihon University),Satoshi Kurumi(Nihon University),Kaoru Suzuki(Nihon University)
キーワード: Off-axis|PLD|電界印加
要約(日本語): 我々はBa(Fe,Co)2As2やBaFe2(As1-xPx)2の超伝導体の材料となる金属酸化物BaO,Co3O4,Fe2O3,P2O5,As2O3等を使い、ドロップレットや酸素を除去するため電界を加えたOff-axisによるパルスレーザー堆積(PLD)法に着目した。基板側にマイナスの電界、ターゲット側にプラスの電界を印加することによりドロップレットとイオン化される酸素を除去するための成膜を試みた。結果として、走査型電子顕微鏡を用いて成膜基板表面のBaOの粒径を比較したところ電界印加により粒径が縮小する割合が増加した。また、同様に電界印加した場合でも一般的なPLD法(On-axisPLD法)に対し、Offaxis PLD法の方がBaOの粒径は均一かつ小さくなりやすいことがわかった。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 313 Kバイト
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