Si基板上に成膜した等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-131

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Isotropic Nd-Fe-B thick film magnets deposited on Si substrates

著者名: 押領司 学(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学),藤井 泰久(KRI)

著者名(英語): Manabu Oryoshi(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University),yasuhisa Fujii(KRI corp)

キーワード: PLD法|MEMS|Taバッファー|Nd-Fe-B

要約(日本語): 本稿では，MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)への応用を鑑み，数10 μm/h以上の成膜速度を有するPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い，10 ?100 ?m厚の広い膜厚範囲でNd-Fe-B系厚膜磁石をSi基板上に成膜し，保磁力を中心にその磁気特性を評価した。本実験ではSi基板上へのTaバッファー層とTaコーティング層ならびにその間に挟まれる10 ?m厚以上のNd-Fe-B系厚膜磁石より構成されている。実験結果として，10?120 μmの幅広い膜厚範囲で，1000 kA/m程度の高保磁力を実現できることが了解される。しかしながら，Nd-Fe-B層の厚膜化によりSi基板がその厚さ方向に乖離する現象が見られた。この原因は，現在のところ不明であるものの，Taバッファー層を厚くし試料を作製したところ，上記のSi基板の乖離現象が抑制できた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 259 Kバイト