グレースケールDMD露光用3次元微細加工プロセスシミュレータ

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-133

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Process simulator for 3D microfabrication using DMD-based grayscale lithography

著者名: 加藤義基 (京都大学),平井 義和(京都大学),Floris Kempen(Delft University of Technology),Fred Keulen(Delft University of Technology),菅野 公二(京都大学),土屋 智由(京都大学),田畑 修(京都大学)

著者名(英語): Yoshiki Kato(Kyoto University),Yoshikazu Hirai(Kyoto University),Floris van Kempen (Delft University of Technology),Fred van Keulen (Delft University of Technology),Koji Sugano(Kyoto University),Toshiyuki Tsuchiya(Kyoto University),Osamu Tabata(Kyoto University)

キーワード: リソグラフィ|シミュレーション|3次元微細加工|厚膜フォトレジスト|MEMS|グレースケールリソグラフィ

要約(日本語): DMDを使ったマスクレス露光法によるグレースケール露光が3次元微細加工技術の1つとして注目されている。我々はグレースケール露光のプロセスパラメータ最適化手法を構築する上で重要な機能モジュールであるグレースケールDMD露光用3次元微細加工プロセスシミュレータを構築した。具体的にはDMDの露光光学系を考慮した新規の露光シミュレーションに既存の厚膜レジスト用現像シミュレーションを適用したシミュレータである。プロセスシミュレータの妥当性を評価するためにシミュレータによる形状予測結果と種々の3次元微細構造体と作製結果を比較したところ、シミュレータは実際の加工プロファイルを再現できていることが確認できた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 432 Kバイト