細孔ありバルク体の磁束フロー抑制効果の検証

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-163

グループ名: 【全国大会】平成25年電気学会全国大会論文集

発行日: 2013/03/05

タイトル(英語): Experimental verification of a flux-flow inhibiting effect of a bulk superconductor with small holes

著者名: 横山 和哉(足利工業大学),津久井 友隆(足利工業大学),三田 裕幸(足利工業大学),坪野谷 典之(足利工業大学),岡 徹雄(新潟大学)

著者名(英語): Kazuya Yokoyama(Graduate School of Engineering,Ashikaga Institute of Technology),Tomotaka Tsukui(Graduate School of Engineering,Ashikaga Institute of Technology),Hiroyuki Mita(Graduate School of Engineering,Ashikaga Institute of Technology),Noriyuki Tsubonoya(Graduate School of Engineering,Ashikaga Institute of Technology),Tetsuo Oka(Niigata University)

キーワード: 超伝導バルク体|パルス着磁|細孔|磁束密度分布|電流密度

要約(日本語): 近年の超伝導バルク体の高特性化および大型化に伴い，パルス着磁による大きな磁場の捕捉が難しくなりつつある。著者らは，パルス着磁を容易にするために，バルク体に細孔を開けた試料を考案し，基礎的な実験を行ってきた。その結果，低温において高印加磁場で磁束フローが抑制される現象を確認した。本文は，その磁束フロー抑制効果を検証するために，20?50Kにおける細孔部分を含む一次元磁場分布から，臨界電流分布モデルを用いて細孔がある部分とない部分の電流密度を算出し，それらの値を比較した。その結果，20および30Kにおいて細孔近傍で電流密度が高くなる結果が得られ，それにより磁束フローが抑制される可能性を示した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 376 Kバイト