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窒素ガスを導入したプレーナー型Ar誘導熱プラズマ発光強度分布

窒素ガスを導入したプレーナー型Ar誘導熱プラズマ発光強度分布

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-134

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Spatial Distribution of Radiation Intensity from a Planar Type of Ar Inductively Coupled Thermal Plasma with Nitrogen Gas Injection

著者名: 入江 寛光(金沢大学),赤尾 美香(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学)

著者名(英語): Hiromitsu Irie(Kanazawa University),Mika Akao(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Tatsuo Isijima(Kanazawa University)

キーワード: 熱プラズマ

要約(日本語): 筆者らは,平面型誘導熱プラズマ装置の先駆けとし,プレーナー型石英容器を採用し,空芯型およびフェライトコア型コイルを用いたプレーナー型Ar熱プラズマ装置を作成している。実際の熱プラズマプロセスにおいては分子性ガスを導入する。今回,空芯型コイルを用いて,窒素ガスを導入し,平面型熱プラズマを維持する試験を行った。窒素を導入することにより,窒化プロセスへの応用が可能となる。そのときの熱プラズマトーチの上方,中心,下方のスペクトル放射強度を測定した。窒素ガスを導入すると熱プラズマのリングが明確になり,スペクトル強度が低下する。発光スペクトルは窒素分子,原子スペクトルが確認できた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 779 Kバイト

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