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マイクロ波流れプラズマによるポリイミドの親水化処理

マイクロ波流れプラズマによるポリイミドの親水化処理

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-142

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Study of Hydrophilic Treatment of Polyimide by Microwave Flowing Plasma

著者名: 鈴木 脩一(東京都市大学),小野 茂(東京都市大学),新井 智彦(東京都市大学)

著者名(英語): Shuichi Suzuki(Tokyo City University),Shigeru Ono(Tokyo City University),Tomohiko Arai(Tokyo City University)

キーワード: ポリイミド|親水化|マイクロ波プラズマ|酸素ラジカル|水接触角

要約(日本語): プラズマによる高分子材料の親水化処理は,使用するプラズマの分析に関するデータが不十分であり,特に活性ラジカルの影響を定量的に考察した報告は非常に少ない。そこで,我々は白金線触媒プローブ法を用いて酸素ラジカルの定量測定を行い,親水化処理の結果と併せて考察することで酸素ラジカルのふるまいについて調査を行った。実験内容は,酸素ラジカルの分布領域を圧力の可変によって制御し,酸素ラジカルの存在下で処理を行ったポリイミド表面の水接触角を観測した。実験の結果,酸素ラジカルが観測される領域ではいずれも非常に良好な特性が得られ,酸素ラジカルが親水化処理に主体的な役割を持つ事を示した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 424 Kバイト

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