マイクロスケール構造を作製したSi基板上へのグラフェン膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-098

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Fabrication of Graphene Films on Micro-scale Patterned Si Wafers by Focused Ion Beam

著者名: 寳井 義之(関東学院大学),土井 和誠(関東学院大学),杉井 丈倫(関東学院大学),加藤 ひとし(関東学院大学),竹村 進(関東学院大学),平松 友康(関東学院大学)

著者名(英語): Takarai Yoshiyuki(Kanto Gakuin University),Doi Kazunobu(Kanto Gakuin University),Sugii Takenori(Kanto Gakuin University),Kato Hitoshi(Kanto Gakuin University),Takemura Susumu(Kanto Gakuin University),Hiramatsu Tomoyasu(Kanto Gakuin University)

キーワード: グラフェン|カーボンドローイング|高配向熱分解黒鉛|集束イオンビーム|走査型プローブ顕微鏡|レーザーラマン分光装置

要約(日本語): 炭素の同素体として、フラーレン、カーボンナノチューブ、グラフェンがあるが、同じ炭素原子から成る物質でも結合の仕方によっては様々な性質を持ったものになる。グラフェンの研究は1940年代から行われていて、2004年にA.K.Geimらがスコッチテープにグラファイトのかけらを貼り付けて剥がすことでグラフェンを採取する実験に成功している。グラフェンは電気的、熱耐的、化学的にも優れた性能を持っていることがわかっており、次世代の電子デバイスに応用できると期待され研究が盛んに行われている。本研究では、集束イオンビームを用いてSi基板上にマイクロスケールの構造を作製し、高配向熱分解黒鉛を用いてドローイングを行いグラフェンの作製を試みた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 295 Kバイト