人工ピンニングセンター導入によるBi系高温超電導体の電気的異方性改善

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-104

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Improvement of Electrical Anisotropy in Bi-based High-temperature Superconductor by Introduction of Pinning Center

著者名: 田中 博美(米子工業高等専門学校),荒木 優一(米子工業高等専門学校),吉川 英樹(物質,材料研究機構),岸田 悟(鳥取大学),玉井 博康(鳥取県産業技術センター)

著者名(英語): Hiromi Tanaka(Yonago National College of Technology),Yuichi Araki(Yonago National College of Technology),Hideki Yoshikawa(National Institute for Materials Science),Satoru Kishida(Tottori University),Hiroyasu Tamai(Tottori Institute of Industrial Technology)

キーワード: 高温超伝導体|臨界電流密度|異方性改善

要約(日本語): Bi系高温超電導体は「作製が容易」「資源が豊富」といった実用上多くの長所を有している．そのため，省エネ型電気自動車用モータや高磁場電磁石などへの応用が期待されている．しかしながら，外部磁場の方向によって臨界電流密度（Jc）が大きく減少するといった電気的異方性が存在し，問題となっている．そこで本研究では，Bi系高温超電導体におけるJcの異方性を改善する方法を提案した．具体的にはMg粒子をBi系高温超電導体に熱拡散させ，磁束捕捉中心として機能させた．これによりJcが減少する原因である“超電導体中での磁束移動”を抑制した．その結果，異方性パラメータγの値を約1/7に改善することに成功した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 285 Kバイト