オンチップノイズ抑制用直交磁化膜のパターン形成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-114

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Photo Lithography Process of Crossed Anisotropy Multilayered Magnetic Films for On-chip Noise Suppressor

著者名: 伊藤 哲夫(東北大学),遠藤 恭(東北大学),山口 正洋(東北大学)

著者名(英語): Tetsuo Ito(Tohoku University),Yasushi Endo(Tohoku University),Masahiro Yamagichi(Tohoku University)

要約(日本語): 磁性薄膜の強磁性共鳴損失は、オンチップ伝導性および誘導性ノイズ結合の抑制に有用である。それを実験的に明示するために、携帯端末用RFIC受信フロントエンド回路上に磁性薄膜を実装し、磁性薄膜によるノイズ抑制と受信性能の両立が可能であることを示すことを計画した。磁性薄膜のパターン形成上の課題は、試験用小チップの精緻な回路・配線・パッドパターンに対して適切にマスクを合わせてフォトリソグラフィを行う実験用プロセス技術の開発である。多種類の実験に供するため、少なくとも数10個レベルの特性均一性も求められる。本論文では、これらの考察に基づいて磁性薄膜をパターン形成した結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 426 Kバイト